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等离子体化学气相沉积硬膜技术

1998年

应用技术

成果简介

等离子体化学气相沉积（PCVD）硬膜技术是利用等离子体的激发作用，把传统的化学气相沉积（CVD）的温度由1000℃降到55℃左右，从而使PCVD兼有CVD的良好的绕镀性和物理气相沉积（PVD）的低温镀膜的特点。该项成果建成了ф200×1500mm的管式PCVD机和ф420×450mm钟罩式PCVD机各一台，在世界上第一个使PCVD硬膜技术达到实用水平，成功应用于工业生产，生产过程自动化，产...

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